蚌埠净化工程设备

在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间，其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间，其洁净度一般为万级或十万级。 B、室内空气参数要求 ： (1)温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5%。 (2)新风量大。由于这类车间内，人员比较多，可以根据以下数值应取下列的最大值：非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保证室内每人每小时的新鲜 空气量≥40m3/h。 (3)送风量大。为了满足洁净室内的洁净度及热湿平衡，需要较大的送风量，就300平方米的车间，吊顶高度为2.5米的，如果是万级，送风量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数，是≥25次/h);如果是十万级，送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数，是≥15次/h)。 净化工程的实施应考虑到紧急情况下的快速响应。蚌埠净化工程设备

在洁净室内静电导致的事故有以下几方面； 1．静电电引起的静电电击，引起人的不安全和恐惧感，并可造成二次伤害(例如人因受电击而摔倒，由摔倒又致伤)； 2．静电放电引起的放电电流，可导致诸如半导体元件等破坏和误动作，例如将50块P- MOS电路放在塑料袋内，摇晃数次后，与非门栅极严重击穿者计39块，失效率竞达78%，这是因为半导体器件对静电放电十分灵敏； 3．静电放电产生的电磁波可导致电子仪器和装置的杂音和误动作； 4．静电放电的发光可导致照相肢片等感光破坏； 蚌埠净化工程设备净化工程中，照明系统也需满足无尘室的特殊要求。

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随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了，所以必须有±，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。净化工程的设计应考虑到生产过程中的温湿度变化。

净化工程是指控制产品 (如硅芯片等) 所接触大气的洁净度及温湿度，使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造。此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。 中文名 净化工程 外文名 Purification engineering 工程性质 环境保护 应    用 制造业 原    理 乱流洁净室，单向流洁净室 作    用 控制产品 (如硅芯片等) 所接触之大气的洁净度及温湿度 目录 1 原理 ▪ 乱流洁净室 ▪ 单向流洁净室 2 控制 3 作用 4 分类 5 等级标准 6 行业应用 7 解决方案 净化工程原理 编辑 净化工程乱流洁净室 乱流 洁净室的主要特点是从来流到出流（从送风口到回风口）之间气流的流通截面是变化的， 洁净室截面比送风口截面大得多，因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。洁净室的净化工程是防止微粒污染的重要手段。上海医院净化工程方案

净化工程是确保生产环境洁净度的关键。蚌埠净化工程设备

用风速可以正确地表示出单向流，因为风速越高室内就越洁净。而每小时换气次数与房间的体积有关，如吊顶的高低，因此不适合用来表示单向流。单向流室内的送风量是紊流室的很多倍（10到100倍）。 净化工程控制 编辑 洁净室中的温湿度控制 洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。蚌埠净化工程设备